布图设计专有权的产生实行登记保护主义，布图设计的登记是确定保护对象的过程，是获得布图设计专有权的条件，而不是公开布图设计内容的过程，也不是以公开布图设计为对价而获得专有权保护。在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下，可以采用样品剖片，提取其中的三维配置信息，确定纸件中无法识别的布图设计细节，用以确定布图设计的内容。

案情简介：

上诉人深圳裕昇科技有限公司(以下简称裕昇公司)、户财欢、黄建东、黄赛亮因与被上诉人苏州赛芯电子科技有限公司(以下简称赛芯公司)侵害集成电路布图设计专有权纠纷一案，不服一审判决，向最高人民法院提起上诉。

争议焦点及法院观点：

（一）复制件或图样的纸件、样品能否用以确定布图设计的保护范围

在布图设计登记时，向登记部门提交的材料中包含布图设计内容的有：复制件或者图样的纸件、复制件或者图样的电子版本、样品。其中：

1、复制件或者图样的纸件必须提交；

2、样品在布图设计已经投入商业利用的情况下提交；

3、复制件或者图样的电子版本基于自愿提交；

4、电子文档应当包含该布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式。

可见，复制件或图样的纸件是获得登记必须提交的文件。在确定布图设计的保护范围时，一般应根据复制件或图样的纸件进行。随着半导体行业的发展，布图设计能在更小的半导体基片上完成更为复杂的布图设计，其集成度大幅提高。即使按照实施细则第十四规定“复制件或者图样的纸件至少放大到该布图设计生产的集成电路的20倍以上”，仍然存在复制件或者图样的纸件放大倍数尚不足以完整、清晰的反映布图设计内容的情况。此时，在样品与复制件或图样的纸件具有一致性的前提下，可以采用样品剖片，通过技术手段精确还原出芯片样品包含的布图设计的详细信息，提取其中的三维配置信息，确定纸件中无法识别的布图设计细节，用以确定布图设计的内容。

（二）是否只能以登记时已经公开的内容确定保护范围

最高法认为，不同于专利法对发明创造采取公开换保护的制度设计，条例对布图设计的保护并不以权利人公开布图设计为条件。条例规定了布图设计登记时应提交的材料，同时参照实施细则，可见，国家知识产权局在布图设计的登记审查时，对纸件的要求是至少放大到20倍以上，对电子版本的要求是包含布图设计的全部信息。登记公告后，公众可以请求查阅的是纸件，对于已经投入商业利用的布图设计纸件中涉及的保密信息，除侵权诉讼或行政处理程序的需要，不得查阅或复制；对于电子版本，同样除侵权诉讼或行政处理程序需要外，任何人不得查阅或复制。可以看出，无论在登记过程中还是登记公告后，对含有布图设计全部信息的电子版本和已投入商业利用的布图设计纸件中的保密信息均没有对公众无条件全部公开的要求。

（三）布图设计登记行为的性质

《集成电路布图设计保护条例》在布图设计的保护上采取的是专门法模式。如上所述，布图设计的保护没有采用类似对发明创造的专利保护规则，即并非通过登记公开布图设计内容以换取专用权。同时，条例对布图设计的保护也与著作权法对作品的保护不完全相同。我国著作权法规定作品自创作完成之日产生著作权，作品的登记则完全基于著作权人的自愿，不是取得作品著作权的条件。条例在布图设计专有权的产生上实行的是登记保护主义，即对布图设计的保护以登记作为前提，至于其是投入商业使用，则在所不问。布图设计的登记是确定保护对象的过程，是获得布图设计专有权的条件，而不是公开布图设计内容的过程，也不是以公开布图设计为对价而获得专有权保护。

本案中，鉴定人在原审期间即说明：从已经剖片的备案芯片内容与备案的纸质件能看到的内容来看，虽然纸质件存在部分不清晰之处，但两者的格局是相同的，未发现明显差异之处。二审庭审中，鉴定人也明确，两者布图的格局相同，具体布图方式看不清楚，具体到赛芯公司主张的6个独创点，两者在布图设计中所处的位置以及整体的布局基本一致，鉴定机构可以通过芯片剖析出来的布图设计来确定不清晰的细节内容。

相关法律法规：

《集成电路布图设计保护条例》

　第十六条　申请布图设计登记，应当提交：

　　（一）布图设计登记申请表；

　　（二）布图设计的复制件或者图样；

　　（三）布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；

（四）国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

《集成电路布图设计保护条例实施细则》

第十四条　复制件或者图样

按照条例第十六条规定提交的布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求：

（一）复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的２０倍以上；申请人可以同时提供该复制件或者图样的电子版本；提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式；

（二）复制件或者图样有多张纸件的，应当顺序编号并附具目录；

（三）复制件或者图样的纸件应当使用Ａ４纸格式；如果大于Ａ４纸的，应当折叠成Ａ４纸格式；

（四）复制件或者图样可以附具简单的文字说明，说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

第十五条　涉及保密信息的申请

布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的５０％。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。

布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。

第三十九条　公众查阅和复制

布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。

本细则第十四条所述的电子版本的复制件或者图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制。